ASML高管走訪三星半導體工廠:稱其希望率先獲得High-Na EUV光刻機設(shè)備

            發(fā)布時間:2020-12-02 09:49:23  |  來源:IT之家  

            12月1日消息 據(jù)韓國媒體businesskorea報道,三星電子正在尋求加強與荷蘭半導體設(shè)備制造商ASML的技術(shù)和投資合作。

            上周,包括首席執(zhí)行官Peter Burnink在內(nèi)的ASML高管參觀了三星電子的半導體工廠,討論了在EUV光刻設(shè)備供應(yīng)和開發(fā)方面的合作。ASML官員與三星電子副董事長金基南及其他三星重要高管進行了會談。三星電子副會長李在镕沒有參加會議。

            業(yè)內(nèi)人士認為,三星電子要求供應(yīng)更多EUV光刻設(shè)備,并討論了兩家公司在開發(fā)下一代EUV光刻設(shè)備方面的合作。

            IT之家獲悉,三星需要更多的EUV光刻設(shè)備來擴大其在全球代工市場的份額。然而,作為全球唯一的EUV光刻設(shè)備制造商,ASML向全球第一大代工企業(yè)臺積電供應(yīng)的設(shè)備比向三星電子供應(yīng)的設(shè)備更多。

            三星電子希望與ASML建立技術(shù)聯(lián)盟,以確保擴大下一代EUV光刻設(shè)備的供應(yīng)。在ASML方面,由于下一代EUV設(shè)備的開發(fā)需要大規(guī)模的投資,因此與三星的投資合作是必要的。

            三星希望投資開發(fā)高數(shù)值孔徑(High-Na)EUV設(shè)備,以提高半導體微細加工所需的電路分辨率。該設(shè)備的價格預(yù)計為每臺5000億韓元(約合人民幣29.662億元),比現(xiàn)在的EUV設(shè)備高出2~3倍。ASML計劃在2023年中期推出該設(shè)備的樣機。三星電子希望先于臺積電獲得ASML的設(shè)備,以取得技術(shù)領(lǐng)先。

            然而一位三星官員表示,會議上沒有做出具體的投資決定。他表示,ASML高管訪問三星電子是為了回應(yīng)副董事長李在镕10月份訪問ASML總部。

            ASML高管還會見了SK Hynix總裁李錫熙。有消息稱,他們就如何擴大EUV設(shè)備的供應(yīng)和促進合作進行了討論。

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