11月5日，世界光刻機(jī)巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進(jìn)博會(huì)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV(極紫外光)光刻機(jī)的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國(guó)出口EUV光刻機(jī)，所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻機(jī)。據(jù)悉，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
ASML此次也帶來(lái)了其整體光刻解決方案，包括先進(jìn)控制能力的光刻機(jī)臺(tái)計(jì)算光刻和測(cè)量通過(guò)建模、仿真、分析等技術(shù)，讓邊緣定位精度不斷提高。
ASML中國(guó)區(qū)總裁沈波接受媒體采訪時(shí)表示，該公司對(duì)向中國(guó)出口集成電路光刻機(jī)持開放態(tài)度，對(duì)全球客戶均一視同仁，在法律法規(guī)框架下，都將全力支持。
沈波透露，自30年前進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)以來(lái)，ASML已提供了全面的技術(shù)和能力來(lái)滿足中國(guó)客戶的需求。目前在中國(guó)一共為客戶提供了700多臺(tái)裝機(jī)。在遵守法律法規(guī)的同時(shí)，ASML全力支持客戶和中國(guó)集成電路行業(yè)的發(fā)展。
被問(wèn)及有沒(méi)有向中國(guó)出口EUV光刻機(jī)的打算，他表示，EUV光刻機(jī)還在等荷蘭政府的出口許可證。ASML必須要在遵守法律法規(guī)的前提下進(jìn)行光刻機(jī)出口。“但我們對(duì)向中國(guó)出口光刻機(jī)是保持很開放態(tài)度的，我們對(duì)全球客戶都一視同仁，只要是我們能夠提供的技術(shù)和設(shè)備，我們都會(huì)全力支持。”
據(jù)了解，目前，市場(chǎng)上光刻機(jī)主要分為兩種，一種是DUV光源，另外一種是EUV光源。后者相比前者精度更高，但價(jià)格也更貴，而且目前全球只有荷蘭ASML有能力生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，而且一年產(chǎn)量還很有限。EUV光刻機(jī)售價(jià)在1.12億歐元左右，約合人民幣將近10億。而DUV光刻機(jī)價(jià)值則是在6億左右，便宜了40%。
EUV光刻機(jī)因?yàn)楣庠词歉吣茏贤饩€的緣故，一次曝光就可以實(shí)現(xiàn)芯片制造，生產(chǎn)效率更高，良品率也遠(yuǎn)高于DUV光刻機(jī)，這為芯片制造商節(jié)省了許多的生產(chǎn)成本，也相當(dāng)于變相提高產(chǎn)能。
相比之下，DUV光刻機(jī)生產(chǎn)7nm工藝芯片步驟繁瑣，液浸式DUV光刻機(jī)需要多次曝光才能達(dá)到7nm效果，而每一次曝光都會(huì)使產(chǎn)品生產(chǎn)成本大幅提升，良品率也會(huì)快速下降。
據(jù)悉，ASML目前最先進(jìn)的EUV(極紫外光)光刻機(jī)可生產(chǎn)5nm芯片，iPhone 12所搭載的A14芯片也需要在ASML EUV光刻機(jī)支持下生產(chǎn)。
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