消息稱：南大光電自主研發ArF光刻膠已成功通過使用認證

12月17日消息 今日南大光電發布公告稱，其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發的 ArF(193nm)光刻膠產品近日成功通過客戶的使用認證。報告顯示，“本次認證選擇客戶 50nm 閃存產品中的控制柵進行驗證，寧波南大光電的ArF光刻膠產品測試各項性能滿足工藝規格要求，良率結果達標。”

“ArF 光刻膠產品開發和產業化”是寧波南大光電承接國家 “02 專項”的一個重點攻關項目。本次產品的認證通過，標志著 “ArF 光刻膠產品開發和產業化”項目取得了關鍵性的突破，成為國內通過產品驗證的第一只國產 ArF 光刻膠。

據IT之家了解，光刻膠是半導體芯片制造過程中的核心材料之一 ，經過紫外光、電子束等照射，光刻膠得到曝光，化學性質發生改變，經過顯影液的洗滌，圖案會留在襯底上。光刻膠分為 KrF(248nm)、ArF(193nm)和 EUV(13.5nm)幾種，括號中的數值為曝光光源的波長。

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